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技术揭秘系列(六)-光刻机的前世今生

价格 998巢币 4990巢币 2折
活动
课程介绍

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讲师介绍

李晓东老师|EDA365 Cadence Allegro论坛特邀版主

电巢学堂特邀讲师

前华为公司七级技术专家

无线微波首席技术规划专家

20年光网络、微波毫米波产品研发经验

 

工作经历

1999/7~2019/12,在华为公司研发体担任硬件工程师、系统工程师、首席技术规划专家,先后从事光网络产品,数据通信产品,微波毫米波产品,5G产品研发工作;

2020年8月加入电巢科技,主要负责微波毫米波、无线通信系统设计的技能提升的教学与培训。

 

主题背景:

光刻机作为芯片制造前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

 

目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下,实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义,目前国产光刻机制程工艺为28纳米 的浸没式DUV光刻机,光刻机国产替代将迎来新的曙光,尤其是IC前道制造领域,将初步打破国外巨头完全垄断的局面,实现从0到1的突破。

 

本次直播将深度剖析用光刻机制造芯片的关键过程和原理,将通俗易懂的讲解光刻机为什么如何复杂和难以国产化,为什么说“光刻机是在挑战全人类文明的极限!”,同时会讲解光刻机全球产业链的构成,国产光刻机打破国外巨头完全垄断面临的挑战。

直播要点:

为什么芯片制造需要光刻机

光刻机的为什么这么难做?

全球光刻机的产业链构成

国产光刻机面临的挑战

 

适合对象

硬件工程师

无线电工程师

质量/可靠性工程师

电气工程、电力电子相关专业学生